產(chǎn)品資料
臺式工業(yè)水相體系快速測量水分管理水分計(jì)
產(chǎn)品名稱: 臺式工業(yè)水相體系快速測量水分管理水分計(jì)
產(chǎn)品型號: EMC-115
產(chǎn)品特點(diǎn): 臺式工業(yè)水相體系快速測量水分管理水分計(jì)日本 YEI-JP EMC-115 是一款采用“靜電容量法"測量水分和溫度的在線/臺式兩用型水分計(jì)，主要面向清洗液、切削液、化工溶液等工業(yè)水相體系的快速水分管理。
臺式工業(yè)水相體系快速測量水分管理水分計(jì) 的詳細(xì)介紹
臺式工業(yè)水相體系快速測量水分管理水分計(jì)
臺式工業(yè)水相體系快速測量水分管理水分計(jì)
日本 YEI-JP EMC-115 是一款采用“靜電容量法"測量水分和溫度的在線/臺式兩用型水分計(jì)，主要面向清洗液、切削液、化工溶液等工業(yè)水相體系的快速水分管理。
日本 YEI-JP EMC-115 是一款采用“靜電容量法"測量水分和溫度的在線/臺式兩用型水分計(jì)，主要面向清洗液、切削液、化工溶液等工業(yè)水相體系的快速水分管理。
日本 YEI-JP EMC-115 是一款采用“靜電容量法"測量水分和溫度的在線/臺式兩用型水分計(jì)，主要面向清洗液、切削液、化工溶液等工業(yè)水相體系的快速水分管理。綜合最新資料，其關(guān)鍵信息如下：
1. 測量原理
- 靜電容量＋電導(dǎo)率雙模：利用水分子介電常數(shù)遠(yuǎn)高于有機(jī)溶劑的特性，通過高頻電容檢測溶液總體介電常數(shù)變化，再疊加電導(dǎo)率修正，消除含鹽量波動(dòng)造成的誤差；
- 內(nèi)置 PT100 溫度探頭，實(shí)時(shí)溫度補(bǔ)償，保證 5–60 ℃ 范圍內(nèi)漂移 ≤±0.3 %H?O。
2. 技術(shù)參數(shù)
| 項(xiàng)目 | 規(guī)格 |
|---|---|
| 水分量程 | 0–100 wt%（體積可對應(yīng) 0–1000 g·L?1） |
| 分辨率/重復(fù)性 | 0.1 wt% / ±1 wt%（@20 ℃） |
| 溫度量程 | 0–100 ℃ |
| 輸出信號 | 4–20 mA + RS-485（Modbus-RTU） |
| 報(bào)警接點(diǎn) | 上下限獨(dú)立，AC 250 V-2 A |
| 響應(yīng)時(shí)間 | ≈300 s（T90，標(biāo)準(zhǔn)流速） |
| 電源 | AC 100 V ±10 % 50/60 Hz 30 W |
| 接液材質(zhì) | SUS316 + PTFE，常溫耐壓 0.5 MPa |
| 防護(hù)等級 | IP54（傳感器部分 IP65） |
3. 產(chǎn)品特點(diǎn)
- 對半水性清洗劑、碳?xì)淙軇?、乙二醇類冷卻液均可直接測量，無需試劑；
- 傳感器探頭直徑 φ25 mm，長度 150 mm，可法蘭或三通裝入循環(huán)管路；
- 主機(jī) 96 × 96 mm 盤面，面板厚度僅 80 mm，適合電控箱內(nèi)嵌安裝；
- 內(nèi)置自診斷：電極結(jié)垢、超溫、斷線自動(dòng)報(bào)警，維護(hù)周期 3–6 個(gè)月擦拭一次即可。
4. 典型應(yīng)用
- 金屬加工中心清洗液水分管理（目標(biāo) 3–8 %H?O）；
- 光學(xué)、電子零部件漂洗槽水分監(jiān)控；
- 碳?xì)湔婵涨逑礄C(jī)在線脫水控制；
- 化工反應(yīng)釜水相滴加終點(diǎn)判斷。
5. 選型與配套
- EMC-115-S：分體式，傳感器與主機(jī)最遠(yuǎn)距離 50 m；
- EMC-115-P：一體插入式，帶 1 m 護(hù)套管，適合旁路杯或小型儲(chǔ)罐；
- 可選自動(dòng)珠刷清洗環(huán)，用于含油、易結(jié)垢液體，延長免維護(hù)時(shí)間至 12 個(gè)月。
日本 YEI-JP EMC-115 是一款采用“靜電容量法"測量水分和溫度的在線/臺式兩用型水分計(jì)，主要面向清洗液、切削液、化工溶液等工業(yè)水相體系的快速水分管理。綜合最新資料，其關(guān)鍵信息如下：
1. 測量原理
- 靜電容量＋電導(dǎo)率雙模：利用水分子介電常數(shù)遠(yuǎn)高于有機(jī)溶劑的特性，通過高頻電容檢測溶液總體介電常數(shù)變化，再疊加電導(dǎo)率修正，消除含鹽量波動(dòng)造成的誤差；
- 內(nèi)置 PT100 溫度探頭，實(shí)時(shí)溫度補(bǔ)償，保證 5–60 ℃ 范圍內(nèi)漂移 ≤±0.3 %H?O。
2. 技術(shù)參數(shù)
| 項(xiàng)目 | 規(guī)格 |
|---|---|
| 水分量程 | 0–100 wt%（體積可對應(yīng) 0–1000 g·L?1） |
| 分辨率/重復(fù)性 | 0.1 wt% / ±1 wt%（@20 ℃） |
| 溫度量程 | 0–100 ℃ |
| 輸出信號 | 4–20 mA + RS-485（Modbus-RTU） |
| 報(bào)警接點(diǎn) | 上下限獨(dú)立，AC 250 V-2 A |
| 響應(yīng)時(shí)間 | ≈300 s（T90，標(biāo)準(zhǔn)流速） |
| 電源 | AC 100 V ±10 % 50/60 Hz 30 W |
| 接液材質(zhì) | SUS316 + PTFE，常溫耐壓 0.5 MPa |
| 防護(hù)等級 | IP54（傳感器部分 IP65） |
3. 產(chǎn)品特點(diǎn)
- 對半水性清洗劑、碳?xì)淙軇?、乙二醇類冷卻液均可直接測量，無需試劑；
- 傳感器探頭直徑 φ25 mm，長度 150 mm，可法蘭或三通裝入循環(huán)管路；
- 主機(jī) 96 × 96 mm 盤面，面板厚度僅 80 mm，適合電控箱內(nèi)嵌安裝；
- 內(nèi)置自診斷：電極結(jié)垢、超溫、斷線自動(dòng)報(bào)警，維護(hù)周期 3–6 個(gè)月擦拭一次即可。
4. 典型應(yīng)用
- 金屬加工中心清洗液水分管理（目標(biāo) 3–8 %H?O）；
- 光學(xué)、電子零部件漂洗槽水分監(jiān)控；
- 碳?xì)湔婵涨逑礄C(jī)在線脫水控制；
- 化工反應(yīng)釜水相滴加終點(diǎn)判斷。
5. 選型與配套
- EMC-115-S：分體式，傳感器與主機(jī)最遠(yuǎn)距離 50 m；
- EMC-115-P：一體插入式，帶 1 m 護(hù)套管，適合旁路杯或小型儲(chǔ)罐；
- 可選自動(dòng)珠刷清洗環(huán)，用于含油、易結(jié)垢液體，延長免維護(hù)時(shí)間至 12 個(gè)月。
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